Полное описание

R/18481/109
Key technologies / Rheinisch-Westfalischen Techn. Hochsch. [et al.]. - Jülich : Forschungszentrum Jülich GmbH, 20 - . - ISSN 1866-1807. - Текст : непосредственный.
Vol. 109 : Study on the electroforming and resistive switching behaviour of nickel oxide thin films for non-volatile memory applications : dissertation / R. Weng. - 2015. - 159 p. : ill. - Текст англ. Рез. нем. - Библиогр.: с. 145-159 (184 назв.). - ISBN 978-3-95806-062-3

ГРНТИ	УДК
31.17.15	004.33.076.4(043)

Рубрики:
Запоминающие устройства энергонезависимые
Никель, оксиды, пленки

Доп. точки доступа:
Rheinisch-Westfalischen Technischen Hochschule(Aachen)

Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ХР (1)
Свободны: ХР (1)

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽