Полное описание

R/17669/6111
Chung, S. -J. Strukturprofilsimulation dicker Schichten in der optischen Lithographie mit DNQ-Novolak-basierenden Photoresists / S.-J.Chung,H.Hein,J.Schulz. - Karlsruhe : [s. n.], 1998. - 94 S. : Ill. - (Wissenschaftliche Berichte / FZKA, ISSN 0947-8620 ; 6111). - 30.00 р. - Текст : непосредственный.
Библиогр.:с.87-89

ГРНТИ	УДК
47.13.11	621.3.049.77-047.84:776

Рубрики:
Фотолитография

Кл.слова (ненормированные): фотолитография
Доп. точки доступа:
Hein, H.
Schulz, J.

Имеются экземпляры в отделах: всего 3 : ХР (1), (2)
Свободны: ХР (1), (2)
Копия:

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽