Полное описание
>
Suh, S. -M. Numerical modeling of silicon oxide particle formation and transport in a one-dimensional low-pressure chemical vapor deposition reactor / S.-M.Suh,M.R.Zachariah,S.L.Girshick. - Minneapolis(Mn) : [s. n.], 2002. - 943-959 p. p. : ill. - (UMSI research report / Univ. of Minnesota ; 2002/162). - 10.00 р. - Текст : непосредственный.
Библиогр.: с.958-959
ГРНТИ | УДК | |
31.17.15 | 546.28-31.03:539.216.2 |
Рубрики:
Кремний, диоксид, пленки -- Производство
Кл.слова (ненормированные): кремний
Доп. точки доступа:
Zachariah, M.R.
Girshick, S.L.
University of Minnesota (Minneapolis, Mn). Supercomputer institute
>
Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ХР (1)
Свободны: ХР (1)
Заказ фрагмента документа ₽