Полное описание

J2/26388
Hacke, M. Aufbau einer Molekularstrahlepitaxie-Anlage zur Herstellung von CoSi2/Si-Heterostrukturen und in Silizium vergrabener SiOx-Schichten sowie Charakterisierung dieser Schichtsysteme : Diss. / M.Hacke. - Aachen : [s. n.], 1996. - 195 S. : Ill. - Текст : непосредственный.
Библиогр.:с.175-186

ГРНТИ	УДК
47.33	621.315.592.9(043)

Рубрики:
Гетеропереходы

Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ХР (1)
Свободны: ХР (1)

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽