Полное описание
>
Hapke, P. VHF-Plasmaabscheidung von mikrokristallinem Silizium (uc-Si:H):Einfluss der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften : Diss. / P.Hapke. - Aachen : [s. n.], 1995. - 101 S. : Ill. - Текст : непосредственный.
Библиогр.:с.94-101
ГРНТИ | УДК | |
29.19.31 | 537.311.322:539.23(043) |
Рубрики:
Кремниевые пленки -- Производство
Кл.слова (ненормированные): кремниевая пленка>
Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ХР (1)
Свободны: ХР (1)
Заказ фрагмента документа ₽