Полное описание

J2/25160
Resists in microlithography and printing / B. Bednarr, J. Kralicek, J. Zachoval [et al.];Transl. from czech. by M. Smetanova. - 2nd rev.engl.ed. - Praha : Acad. press ; Amsterdam [etc.] : Elsevier , 1993. - 376 p. : ill. - ISBN 0-444-98846-7 : 300 р. - Текст : непосредственный.
Библиогр.в конце глав.

ГРНТИ	УДК
47.13.17	621.3.049.77-047.84:776

Рубрики:
Фоторезисты

Доп. точки доступа:
Bednarr, B.
Kralicek, J.
Zachoval, J.

Имеются экземпляры в отделах: всего 3 : ХР (1), (2)
Свободны: ХР (1), (2)
Копия:

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽