Полное описание

G2/18401
Nagel, N. Losungswachstum von Siliziumschichten auf Siliziumdioxid und Charakterisierung der Schichten : Diss. / N.Nagel. - Stuttgart : [s. n.], 1993. - 140 S. : Ill. - Текст : непосредственный.
Библиогр.:с.133-138

ГРНТИ	УДК
47.33	621.382.323(043)

Рубрики:
Моп-транзисторы

Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ХР (1)
Свободны: ХР (1)

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽