Полное описание
>
Nagel, N. Losungswachstum von Siliziumschichten auf Siliziumdioxid und Charakterisierung der Schichten : Diss. / N.Nagel. - Stuttgart : [s. n.], 1993. - 140 S. : Ill. - Текст : непосредственный.
Библиогр.:с.133-138
ГРНТИ | УДК | |
47.33 | 621.382.323(043) |
Рубрики:
Моп-транзисторы
>
Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ХР (1)
Свободны: ХР (1)
Заказ фрагмента документа ₽