Полное описание
>
Zipfl, P. Untersuchungen des Isolationsverhaltens von SF6 und SF6/N2-Gemischen bei Beanspruchung durch hochfrequent oszillierende Stossspannungen unter Verwendung eines weiterentwickelten Kurzzeitkamerasystems : Diss. / P.Zipfl. - Darmstadt : [s. n.], 1992. - 146 S. : Ill. - Текст : непосредственный.
Библиогр.:с.136-146
ГРНТИ | УДК | |
45.31 | 621.316.37.027.3(043) |
Рубрики:
Распределительные устройства (эл.) элегазовые
>
Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ХР (1)
Свободны: ХР (1)
Заказ фрагмента документа ₽