Полное описание

G2/16430
Eberle, J. Optimierung der Strahlungscharakteristik eines Pinchplasmas fur die Rontgenlithographie : Diss. / J.Eberle. - Aachen : [s. n.], 1990. - 117 S. : Ill. - Текст : непосредственный.
Библиогр.:с.115-117
Перевод заглавия: Оптимизация характеристики излучения пинч-плазмы для рентгеновской литографии:Дис

ГРНТИ	УДК
47.13.11	621.3.049.77-047.84:776(043)

Рубрики:
Рентгенолитография -- Оптимизация

Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ХР (1)
Свободны: ХР (1)

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽