Полное описание
>
Установка для нанесения тонких пленок ионно-паровым осаждением / ВЦП. - [Б. м. : б. и.]. - 14 c. : ил. - япон. - Пер. ст. / К. Огата, Андо из журн.: // Ionics. - 1984. - P.13-20. - Б. ц. - Текст : непосредственный.
Библиогр.:6 назв. Вып.дан.отсутствуют
ГРНТИ 47.03.11
Рубрики:
Пленки
Кл.слова (ненормированные): ионная технология -- ионно-паровое осаждение -- тонкие пленки -- ионная бомбардировка -- вакуумное напыление
Доп. точки доступа:
Огата, К.
>
Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ХР (1)
Свободны: ХР (1)
Копия: мкф.
Заказ фрагмента документа ₽