Полное описание
> Юнга, А. Н. Дозы облучения микро- и нанослоев при образовании свежих поверхностей / А. Н. Юнга, В. А. Никеров. - Текст : непосредственный // Функциональные наноматериалы для космической техники : тр. 2-й Всерос. шк.-семинара студентов, аспирантов и молодых ученых, 17-19 мая 2011 г., Москва. - М., 2011. - С. 145-149. - Библиогр.: 3 назв.
ГРНТИ 29.19.17
Аннотация: Потоки релятивистских электронов высокой интенсивности имеют электронные пучки, рождающиеся при разматывании липких лент. Эти пучки могут обеспечивать существенную дозовую нагрузку в микро- и нанослоях при отрыве липких лент от различных приборов и материалов, а также при разломе и разрыве материалов. Рассчитана эта нагрузка с использованием модели обобщенной диффузии нерелятивистских электронов.
Доп. точки доступа:
Никеров, В.А.
>
Имеются экземпляры в отделах: всего -20111128 : ПНТ (-20111128)
Свободны: ПНТ (1)
Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): -009073-746401)>
Шифр в сводном ЭК: 61f23d6e84a582ed89b66ad1213aa332
Заказ фрагмента документа ₽