• ВХОД

    •  

    Полное описание

    Гидрохимическое осаждение тонких пленок халькогенидов металлов : рекомендовано методсоветом ВУЗа / Л. Н. Маскаева, В. Ф. Марков, С. С. Туленин, Н. А. Форостяная ; ред. В. Ф. Маркова ; Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б. Н. Ельцина (Екатеринбург), Химико-технологический институт. - Екатеринбург : Изд-во Урал. ун-та, 2017. - 281 с. : ил. - URL: https://www.iprbookshop.ru/106357.html (дата обращения: 11.04.2023) . - Режим доступа: ЭБС IPR SMART, https://biblioclub.ru/index.php?page=book&id=695493 (дата обращения: 25.04.2024) . - Режим доступа: Электронно-библиотечная система "Университетска библиотека ONLINE", требуется авторизация. - Авт. указ. на обороте тит. л. - Библиогр.: с. 276-277. - 50 экз. - ISBN 978-5-7996-2141-4. - Текст : электронный.
    Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
    ГРНТИ УДК
    29.19.31537.311.322:539.23(076.5)
    ББК
    34.6

    Рубрики:
    Полупроводниковые пленки -- Производство -- Учебники и пособия

    Кл.слова (ненормированные): ГИДРОХИМИЧЕСКОЕ ОСАЖДЕНИЕ -- МЕТАЛЛ -- ТВЕРДЫЙ РАСТВОР -- ТОНКАЯ ПЛЕНКА -- УЧЕБНИК ДЛЯ ВЫСШЕЙ ШКОЛЫ -- ХАЛЬКОГЕНИДЫ -- ХИМИЧЕСКАЯ КИНЕТИКА -- ХИМИЧЕСКАЯ РЕАКЦИЯ
    Аннотация: В практикуме представлены оригинальные расчетные задания по определению условий образования твердой фазы, а также большой цикл лабораторных работ по гидрохимическому осаждению тонких пленок халькогенидов металлов, изучению их полупроводниковых и фотоэлектрических свойств с использованием современной приборной базы. Рассмотрены условия и режимы подготовки поверхности подложки к осаждению, влияние материала подложки на морфологию и фоточувствительные свойства получаемых пленок, методы определения их толщин, приемы сенсибилизации пленок к ИК-излучению. Рекомендовано студентам высших учебных заведений, в первую очередь магистрам, проходящим обучение по программам материаловедческого профиля.
    Доп. точки доступа:
    Маскаева, Л.Н.
    Марков, В.Ф.
    Туленин, С.С.
    Форостяная, Н.А.
    Маркова, В. Ф.\ред.\
    Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б. Н. Ельцина (Екатеринбург). Химико-технологический институт

    Перейти к просмотру издания

    https://biblioclub.ru/index.php?page=book&id=695493


    Держатели документа:
    Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): Д10-17/50697)
    Цифровой образовательный ресурс IPR SMART : 143405, Московская область, г. Красногорск, ш. Ильинское, д. 1А, помещ. 17,6/ком. 5 (Шифр в БД-источнике (IPRBOOKS): 106357)
    ЭБС Университетская библиотека онлайн : 117342, г. Москва, ул. Обручева, д. 34/63, стр. 3 (Шифр в БД-источнике (BIBLIO): 695493)

    Шифр в сводном ЭК: 3c9db67919232159d9a9fb329504d818



    Заказ фрагмента документа ₽

    Просмотр издания ЭБС IPR SMART
    или
    Просмотр издания Электронно-библиотечная система "Университетска библиотека ONLINE", требуется авторизация