Полное описание

Ишкалов, Ж. Т. Исследование влияния парарметров реактивного магнетронного распыления на электронные свойства аморфного гидрированного Si,Ge и расплавов на их основе : автореферат диссертации на соискание ученой степени канд.физ-мат.наук:01.04.10 / Ж. Т. Ишкалов. - СПб, 1993. - 18 с. : ил. - Текст : непосредственный.
В надзаг.: Рос АН,Физ-техн.ин-т им.А.Ф.Иоффе. Библиогр.: с. 18(3назв.).

ГРНТИ	УДК
47.09.29	621.315.592.002(043)

Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): АР93-1674)

Шифр в сводном ЭК: 39860eaf1c5c66c4234912c9b1c84586

Заказать издание
Заказ фрагмента документа