• ВХОД

    •  

    Полное описание

    Extreme ultraviolet (EUV) sources for lithography based on synchrotron radiation / A.Dattoli,A.Doria,G.P.Gallerano и др. - Karlsruhe : [s. n.], 2001. - 29 p. : ill. - (Wissenschaftliche Berichte / FZKA, ISSN 0947-8620 ; 6606). - Текст : непосредственный.
    Рез.англ.,нем. Библиогр.:с.16-19

    ГРНТИ УДК
    47.13.11621.3.049.77-047.84:776

    Рубрики:
    электронолитографическое оборудование

    Кл.слова (ненормированные): ЭЛЕКТРОНОЛИТОГРАФИЧЕСКОЕ ОБОРУДОВАНИЕ
    Доп. точки доступа:
    Dattoli, A.
    Doria, A.
    Gallerano, G.P.
    Giannessi, L.

    Держатели документа:
    Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): R/17669/6606)

    Шифр в сводном ЭК: 35c43f3fb1c33f61962774b5240a3675



    Заказ фрагмента документа ₽