Полное описание
>
Установки для получения окисных пленок / ВЦП. - [Б. м. : б. и.]. - 17 c. : ил. - Япон.яз. - Пер. ст. / Е. Акаси из журн.: // Дэнси дзайре. - 1988. - N 12(прилож). - P. 30-35. - Б. ц. - Текст : непосредственный.
Библиогр.: 9 назв.
ГРНТИ 47.33
Рубрики:
Полупроводниковые приборы
Кл.слова (ненормированные): пленки диоксида кремния -- кремниевые полупроводниковые пластины -- термическое оксидирование -- химическое осаждение из газовой фазы
Доп. точки доступа:
Акаси, Е.
>
Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ХР (1)
Свободны: ХР (1)
Копия: мкф.
Заказ фрагмента документа ₽