• ВХОД
  •  

    Полное описание


    Юнга, А. Н. Дозы облучения микро- и нанослоев при образовании свежих поверхностей / А. Н. Юнга, В. А. Никеров. - Текст : непосредственный // Функциональные наноматериалы для космической техники : тр. 2-й Всерос. шк.-семинара студентов, аспирантов и молодых ученых, 17-19 мая 2011 г., Москва. - М., 2011. - С. 145-149. - Библиогр.: 3 назв.
    (Шифр в БД Д9-11/82073)
    ГРНТИ 29.19.17

    Аннотация: Потоки релятивистских электронов высокой интенсивности имеют электронные пучки, рождающиеся при разматывании липких лент. Эти пучки могут обеспечивать существенную дозовую нагрузку в микро- и нанослоях при отрыве липких лент от различных приборов и материалов, а также при разломе и разрыве материалов. Рассчитана эта нагрузка с использованием модели обобщенной диффузии нерелятивистских электронов.
    Доп. точки доступа:
    Никеров, В.А.

    Экз-ры полностью Д9-11/82073
    Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ПНТ (1)
    Свободны: ПНТ (1)



    Заказ фрагмента документа ₽