Полное описание

М/57213/23
Ивин, В. В. Исследование предельных возможностей использования оптической литографии в области критических размеров менее 0,2 мкм с помощью математического моделирования / В.В.Ивин,Т.М.Махвиладзе. - М. : [б. и.], 2000. - 21 с. : ил. - (Препринт / Физико-технологический ин-т(Москва) ; 23)). - 50 экз. - Б. ц. - Текст : непосредственный.

ГРНТИ	УДК
47.13.11	621.3.049.77-047.84:776(04)

Рубрики:
Фотолитография

Кл.слова (ненормированные): фотолитография
Доп. точки доступа:
Махвиладзе, Т.М.

Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ХР (1)
Свободны: ХР (1)

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽