Полное описание
>
Ишкалов, Ж. Т. Исследование влияния парарметров реактивного магнетронного распыления на электронные свойства аморфного гидрированного Si,Ge и расплавов на их основе : автореферат диссертации на соискание ученой степени канд.физ-мат.наук:01.04.10 / Ж. Т. Ишкалов. - СПб : [б. и.], 1993. - 18 с. : ил. - Текст : непосредственный.
В надзаг.: Рос АН,Физ-техн.ин-т им.А.Ф.Иоффе. Библиогр.: с. 18(3назв.).
ГРНТИ | УДК | |
47.09.29 | 621.315.592.002(043) |
Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ХРЦ (1)
Свободны: ХРЦ (1)
Копия: мкфш. Шифр МФ
Заказ фрагмента документа ₽