Полное описание

АР09-10886
Аношкин, Ю. В. Технология получения резистивных структур на низкоразмерном уровне : автореф. дис. ... канд. техн. наук : 05.11.14 / Ю. В. Аношкин. - Пенза : [б. и.], 2009. - 24 с. : ил. - Библиогр.: с. 22-24 (17 назв.). - Текст : непосредственный.

ГРНТИ	УДК
47.59.33	621.316.849-047.56(043)

Кл.слова (ненормированные): резисторы пленочные -- производство -- хромоникелевые сплавы -- технологические режимы -- резистивные пленки -- параметры -- деградация -- стабильные параметры -- воспроизводимость
Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ХРЦ (1)
Свободны: ХРЦ (1)

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽