• ВХОД
  •  

    Полное описание

    Установка для нанесения тонких пленок ионно-паровым осаждением. - 14 c. : ил. - япон. - Пер.ст. / К. Огата, Андо из журн.: // Ionics. - 1984. - P.13-20. - Текст : непосредственный.
    Библиогр.:6 назв. Вып.дан.отсутствуют
    ГРНТИ 47.03.11

    Рубрики:
    Пленки

    Кл.слова (ненормированные): ВАКУУМНОЕ НАПЫЛЕНИЕ -- ИОННАЯ БОМБАРДИРОВКА -- ИОННАЯ ТЕХНОЛОГИЯ -- ИОННО-ПАРОВОЕ ОСАЖДЕНИЕ -- ТОНКИЕ ПЛЕНКИ
    Доп. точки доступа:
    Огата, К.

    Держатели документа:
    Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): 95/22)

    Шифр в сводном ЭК: f7afe46118d61b7d1a283e7ed7982508



    Заказ фрагмента документа ₽