Полное описание
> Установка для нанесения тонких пленок ионно-паровым осаждением. - 14 c. : ил. - япон. - Пер.ст. / К. Огата, Андо из журн.: // Ionics. - 1984. - P.13-20. - Текст : непосредственный.
Библиогр.:6 назв. Вып.дан.отсутствуют
ГРНТИ 47.03.11
Рубрики:
Пленки
Кл.слова (ненормированные): ВАКУУМНОЕ НАПЫЛЕНИЕ -- ИОННАЯ БОМБАРДИРОВКА -- ИОННАЯ ТЕХНОЛОГИЯ -- ИОННО-ПАРОВОЕ ОСАЖДЕНИЕ -- ТОНКИЕ ПЛЕНКИ
Доп. точки доступа:
Огата, К.
Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): 95/22)>
Шифр в сводном ЭК: f7afe46118d61b7d1a283e7ed7982508
Заказ фрагмента документа ₽