Полное описание

Chemical physics of thin film deposition processes for micro-and nano-technologies : proc .of the Nato ASI on сhemical physics of thin film deposition ..., 2001, Sept.3-14, Kaunas / Ed. Y. Pauleau. - Dordrecht [etc.] : Kluwer, 2002. - 363 p : lll. - (nato science series. sub-ser.II, Mathematics, physics and chemistry ; vol.55). - Текст : непосредственный.
Библиогр. в конце статей. Указ.:c.361-263

ГРНТИ	УДК
47.13.11	621.3.049.76.002(063)

Рубрики:
Микроэлектронные приборы -- Производство -- Съезды и конференции

Доп. точки доступа:
Pauleau, Y.\ed.\

Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): R/18103/55)

Шифр в сводном ЭК: 4b8533e9f3cecdac41002c994c41934d

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽