Полное описание

Achenbach, S. Optimierung der Prozessbedingungen zur Herstellung von Mikrostrukturen durch ultratiefe Rontgenlithographie (UDXRL) : Diss. / S.Achenbach,F.J.Pantenburg,J.Mohr. - Karlsruhe, 2000. - VI,138 S. S. : Ill. - (Wissenschaftliche Berichte / FZKA ; 6576). - Текст : непосредственный.
Рез.англ.Библиогр.:c.113-122

ГРНТИ	УДК
47.13.11	621-181.4(043)

Рубрики:
Миниатюрные изделия -- Производство

Кл.слова (ненормированные): МИНИАТЮРНОЕ ИЗДЕЛИЕ
Доп. точки доступа:
Pantenburg, F.J.
Mohr, J.

Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): R/17669/6576)

Шифр в сводном ЭК: 56f124fc66487f8b6e43c6529ceb21ae

Заказать издание
Заказ фрагмента документа