Полное описание

Girshick, S. L. A model for chemical vapor deposition of diamond in an RF thermal plasma / S.L.Girshick,B.W.Yu. - Minneapolis(Mn) : [s. n.], 1994. - Pag.var. : ill. - (UMSI research report / Univ.of Minnesota ; 94/74). - Текст : непосредственный.
Библиогр. в конце статьи

ГРНТИ	УДК
38.35.21	549.211:539.216.2

Рубрики:
Алмазные пленки -- Производство

Доп. точки доступа:
Yu, B.W.

Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): R/17401/94/74)

Шифр в сводном ЭК: 035778c8595643ae385adf0c7dae287c

Заказать издание
Заказ фрагмента документа