Hacke M. Aufbau einer Molekularstrahlepitaxie-Anlage zur Herstellung von CoSi2/Si-Heterostrukturen und in Silizium vergrabener SiOx-Schichten sowie Charakterisierung dieser Schichtsysteme : Diss. / M.Hacke, 1996. - 195 S. - Текст : непосредственный.
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